Ta -2.5 W Leay Rod

Ta -2.5 W Leay Rod

Grado: RO5200 RO5400
Punto di fusione: 2980 gradi
Punto di ebollizione: 5370 gradi
Densità: 16,6 g/cm³
PURITÀ: maggiore o uguale al 99,95%
Standard di implementazione: ASTM B365 GB/T 26012-2010
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Descrizione

Descrizione

 

Ta-2.5W alloy is a high-performance alloy composed of tantalum (Ta) and tungsten (W), with a tungsten content of 2.5% and the remainder being tantalum. This alloy maintains excellent corrosion resistance of tantalum while improving high-temperature strength and creep resistance through solid solution strengthening of tungsten, renderlo adatto per applicazioni industriali in ambienti estremi.

Caratteristiche chiave

✅ Eccellente resistenza alla corrosione

Resistente alla maggior parte degli acidi (inclusi acido cloridrico, acido nitrico, acido solforico, ecc. .), ma non all'acido idrofluorico (HF) e basi forti .

Può ancora mantenere proprietà antiossidanti ad alte temperature .

✅ Eccellenti prestazioni ad alta temperatura

L'aggiunta di tungsteno migliora significativamente la resistenza all'alta temperatura e la resistenza del creep della lega (meglio del puro tantaLum) .

Intervallo di temperatura applicabile: temperatura ambiente ~ 2500 gradi C+(esposizione a breve termine) .

✅ Buona macchinabilità

Può essere elaborato in aste, fogli, tubi, fili, ecc. .

Le prestazioni possono essere ulteriormente ottimizzate attraverso l'elaborazione fredda/calda .

✅ basso coefficiente di espansione termica e alta conducibilità termica

Adatto per ambienti di ciclismo termico ad alta temperatura, come i componenti spaziali .

Applicazioni

🔹 Industria: rivestimento del reattore, scambiatore di calore, valvola resistente all'acido (per media fortemente corrosivi) .

🔹 Aerospace: ugelli a razzo, dispositivi di fissaggio ad alta temperatura, componenti della camera di combustione .

🔹 Industria nucleare: materiali di rivestimento del reattore nucleare, componenti di schermatura delle radiazioni .

🔹 campo medico: impianti chirurgici (grazie alla biocompatibilità) .

🔹Semiconductor Industry: CVD (deposizione di vapore chimico) Attrezzatura componenti .

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