Gli obiettivi di sputtering resistenti ad alta temperatura svolgono un ruolo chiave in molti campi ad alta tecnologia, in particolare negli scenari di applicazione che richiedono stabilità ad alta temperatura. Quello che segue è un'introduzione ai primi 10 obiettivi di sputtering resistenti ad alta temperatura:
Bersagli in lega di molibdeno e molibdeno
Caratteristiche: il molibdeno è un metallo grigio argento con un punto di fusione fino a 2623 gradi e una densità di 10,2 g/cm³. Il molibdeno e le sue leghe hanno i vantaggi di un elevato punto di fusione, una buona conducibilità elettrica e termica, un coefficiente di espansione termica bassa, un'eccellente resistenza alla corrosione e una cordialità ambientale.
Applicazione: gli obiettivi in lega di molibdeno e molibdeno sono stati ampiamente utilizzati in elettrodomestici elettronici, celle solari e rivestimento di vetro.
Obiettivi di metallo rutenio
Caratteristiche: I bersagli di rutenio hanno una buona resistenza al calore, resistenza alla corrosione e resistenza meccanica e sono adatti per l'uso a temperatura alta, ad alta pressione e ambienti corrosivi.
Processo di preparazione: metti la polvere di rutenio nello stampo di grafite, compatta e mettila in fornace a pressione a caldo del vuoto per sinterizzazione unidirezionale a caldo. Il processo di sinterizzazione viene effettuato in atmosfera di gas protettiva, la temperatura di sinterizzazione è 1600-1800 grado e la pressione di sinterizzazione è 5-20 MPA.
Applicazione: il bersaglio del rutenio può essere utilizzato per la deposizione di film sottili di dispositivi elettronici, nonché la preparazione di film sottili ottici e rivestimenti ottici.
Target di sputtering in alluminio ultra-alto della purezza
Caratteristiche: Target in alluminio ha un'elevata purezza e un'eccellente conducibilità, adatta alla preparazione dello strato conduttivo e allo strato barriera dei dispositivi a semiconduttore.
Stato del mercato: si stima che il mercato target di sputtering globale in alluminio a massimo della purezza raggiungerà 380 milioni di dollari nel 2029, con un CAGR del 5,6%.
Target di selenide di gallio indio di rame (CIGS)
Caratteristiche: Target CIGS viene utilizzato principalmente nella produzione di celle solari a film sottile.
Applicazione: con il rapido sviluppo dell'industria solare, anche la domanda di obiettivo CIGS è in aumento.
Target di ossido di stagno di indio (ITO)
Caratteristiche: Gli obiettivi ITO vengono utilizzati principalmente per realizzare pellicole conduttive trasparenti e sono ampiamente utilizzati nei touch -screen e nei display a pannelli piatti.
Posizione del mercato: con la crescente domanda di elettronica di consumo, la posizione di mercato degli obiettivi ITO sta diventando sempre più importante.
Target di tungsteno
Caratteristiche: il tungsteno ha un elevato punto di fusione (3422 gradi) e un'eccellente resistenza all'usura, che è adatta alla deposizione sputtering di materiali ad alta temperatura e resistenti all'usura.
Applicazione: gli obiettivi di tungsteno sono ampiamente utilizzati in semiconduttori, dispositivi elettronici e rivestimenti resistenti all'usura.
Target in titanio
Caratteristiche: Gli obiettivi di titanio hanno una buona resistenza alla corrosione e biocompatibilità e sono adatti alla deposizione sputtering di dispositivi medici e biosensori.
Applicazione: con il continuo sviluppo della tecnologia medica, gli obiettivi di titanio hanno ampie prospettive di applicazione nel campo dei dispositivi medici.
Target di Tantalum
Caratteristiche: I bersagli di Tantalum hanno un punto di fusione elevato (2996 gradi) e un'eccellente stabilità chimica, che sono adatte per la deposizione sputtering di materiali ad alta temperatura e chimicamente stabili.
Applicazione: gli obiettivi di Tantalum sono ampiamente utilizzati in dispositivi elettronici, industrie aerospaziali e chimiche.
Obiettivi di niobio
Caratteristiche: I bersagli di niobio hanno un punto di fusione elevato (2468 gradi) e eccellenti proprietà superconduttori e sono adatti alla deposizione sputtering di materiali superconduttori e dispositivi elettronici.
Applicazione: gli obiettivi di Niobium sono ampiamente utilizzati in materiali superconduttori, dispositivi elettronici e aerospaziale.
Caratteristiche: I bersagli di zirconio hanno una buona resistenza alla corrosione e biocompatibilità e hanno un punto di fusione elevato (1852 gradi), adatto alla deposizione sputtering di materiali resistenti alla corrosione e biocompatibili.
Applicazione: gli obiettivi di zirconio sono ampiamente utilizzati in dispositivi medici, apparecchiature chimiche e dispositivi elettronici.
In sintesi, gli obiettivi di sputtering resistenti ad alta temperatura sopra dieci hanno le proprie caratteristiche e sono ampiamente utilizzati in semiconduttori, ottica, fotovoltaici, dispositivi elettronici, dispositivi medici e altri campi. Con il progresso della scienza e della tecnologia e dei cambiamenti nella domanda del mercato, la ricerca e lo sviluppo di questi obiettivi si sta muovendo verso prestazioni più elevate, a basso costo e più rispettosi dell'ambiente.